Fokussiertes Ionenstrahlsystem in Kombination mit einem Rasterelektronenmikroskop

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2008
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 71861728

Das beantragte Zweistrahl-FIB/SEM-Gerät stellt für die beantragenden Gruppen eine wesentlicheErweiterung der Strukturierungs- und Charakterisierungs-Technologien auf der Nanometer- Skala zurVerfügung. Zum einen erlaubt es die Abtragung von Schichten durch lokales Sputtern und damit diemaskenlose Strukturierung komplexer Geometrien. Dies ist besonders für Proben wichtig, bei denenherkömmliche lithographische Verfahren nicht einsetzbar sind (Partikelschichten, organischeHalbleiter). Durch den Einlass reaktiver Gase kann zusätzlich eine Erhöhung der Abtragrate oder einezusätzliche Materialselektivität erzielt werden. Zum anderen kann aber auch Material ortsaufgelöstdeponiert werden und zwar sowohl Metalle als auch Oxide, was für die Kontaktierung vonNanostrukturen und deren Anwendung in funktionalen Nanosystemen von großer Wichtigkeit ist undeine gravierende technologische Lücke schließt. Schließlich ist es auch für die Präparation vonSchnittproben (Lamellen) für die Transmissionselektronenmikroskopie notwendig. Das Gerät ist fürzahlreiche Projekte in den Sonderforschungsbereichen 445, 491 und 616 der DFG sowie imGraduiertenkolleg 1240 von zentraler Bedeutung.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 5120 Rasterelektronenmikroskope (REM)
• Antragstellende Institution: Universität Duisburg-Essen
• Leiter: Professor Dr. Axel Lorke