Mask Aligner

• Fachliche Zuordnung: Systemtechnik
• Förderung: Förderung in 2007
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 56624344

Die Fotolithografie ist eine Kerntechnologie in der Mikrosystemtechnik und kommt in nahezu jedem mikrotechnischen Fertigungsablauf zum Einsatz. Der Mask Aligner ermöglicht dabei die präzise Justierung von Maske und Substrat und anschließend die hochgenaue Übertragung der Mikrostrukturen und ist somit ein zentrales und unverzichtbares Gerät für die Fotolithografie. Es gibt keine andere Möglichkeit bzw. kein anderes Gerät, das diese hohen Anforderungen erfüllt, ohne die es aber nicht möglich ist, Komponenten für Mikrosensoren, –aktoren und –systeme zu fertigen Am Institut für Mikrotechnik wird der Mask Aligner für jedes Forschungsprojekt benötigt. Das Gerät, das das Institut seit 1996 besitzt, weist inzwischen deutliche und maßgebliche Mängel auf. Eine vor kurzem vom Hersteller durchgeführte Wartung hat ergeben, dass diese Mängel nicht mehr zu beheben sind. Es ist damit zu rechnen, dass das Gerät kurzfristig ganz ausfällt, was die Einstellung der gesamten mikrotechnischen Fertigung und damit eine langfristige Unterbrechung nahezu aller Forschungsarbeiten zur Folge haben würde. Es ist daher zwingend notwendig, rechtzeitig ein Ersatzgerät zu beschaffen. Das beantragte Ersatzgerät entspricht hinsichtlich seiner grundsätzlichen Leistungsmerkmale dem des vorhandenen Geräts. Bezüglich der Belichtungseinheit und der Hard- und Softwareausstattung ist es dem aktuellen Stand der Technik angepasst.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 5440 Reproduktionskameras, optische Spezialgeräte für Halbleitertechnologie
• Antragstellende Institution: Technische Universität Braunschweig
• Leiter: Professor Dr. Stephanus Büttgenbach