FOR 395:  Selected Materials and Devices for Silicon Ultra Large Scale Integration

• Subject Area: Computer Science, Systems and Electrical Engineering
• Term: from 2000 to 2007
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5467170

No abstract available

• DFG Programme: Research Units

Projects

• Charakterisierung von inneren Grenzflächen im Hinblick auf ultra-flache Kontakte und vergrabene Heterostrukturen (Applicant Dollinger, Günther )
• Der Tunneltransistor in matrixförmigen Schaltungen und Sensoren (Applicant Schmitt-Landsiedel, Doris )
• Elektronische Eigenschaften und Diffusionsverhalten oberflächennaher Dotierschichten (Applicant Koch, Frederick )
• Esaki tunneling transistor (Applicant Hansch, Walter )
• Materialsysteme für Metallisierung und Barrieren (Applicant Veprek, Stan )
• Niederohmige, elektromigrationsfeste Silberstrukturen für die Mikroelektronik (Applicant Schmitt-Landsiedel, Doris )
• Rationales Design von neuen Materialien für die Mikroelektronik (Applicant Lercher, Johannes A. )
• Vertikale MOS-Bauelemente mit Delta-Dotierprofilen (Applicant Eisele, Ignaz )
• Zentrale Dienste (Applicant Schmitt-Landsiedel, Doris )

• Spokesperson: Professorin Dr. Doris Schmitt-Landsiedel