Nanoskalig optisches Lithographie Setup

• Fachliche Zuordnung: Systemtechnik
• Förderung: Förderung in 2024
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 544668839

Das nanoskalige optische Lithographie Setup (NOLS) besteht aus mehreren Komponenten, die gemeinsam genutzt werden um dielektrische und metallische Nano- und Mikrostrukturen zu realisieren. Die zentrale Komponente ist eine Apparatur zur maskenlosen optischen Lithographie, welche Strukturen mit Abmessungen bis zu 600 nm und hohem Durchsatz realisieren kann. So wird ein sinnvoller Einsatz in einem Labor mit vielen Nutzern gewährleistet. Die Kombination aus direkter Laserlithographie und Belichtung mit örtlichen Lichtmodulatoren bringt die gewünschte Flexibilität zur Strukturierung großskaliger Proben, sowie kleinerer Chips. Ebenso muss die Möglichkeit gewährleistet sein, das Gerät zur Strukturierung mehrerer ausgerichteter Lithographielevel einzusetzen. Ein zentrales Forschungsgebiet, in dem das NOLS genutzt wird, sind Untersuchungen an zweidimensionalen Materialien. Da wir planen, das System zur direkten Kontaktierung zweidimensionaler Kristalle einzusetzen, werden wir die sogenannte ‚Zeichenoption‘ ausgiebig nutzen, mit der direkt Kontakt-Leitungen an die Flocken von globalen Referenzpunkten strukturiert werden können. Der Lithographieapparat wird durch einen Spin-Coater und eine Hotplate zum Lackaufschleudern und ausbacken, sowie durch einen Wire-Bonder zur Probenkontaktierung komplementiert.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Nanoskalig optisches Lithographie Setup
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Carl von Ossietzky Universität Oldenburg
• Leiter: Professor Dr. Christian Schneider