Dual Beam Focused Ion Beam - Electron Beam System

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2007
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 53551925

Im Mikro-Strukturlabor der Universität Würzburg werden seit ca. 12 Jahren Forschungsarbeiten mit fokussierten Ionenstrahlen durchgeführt. Im vorliegenden Vorhaben wird die Beschaffung einer Dual Beam Focused Ion Beam - Electron Beam Anlage beantragt, die es ermöglichen wird, die bisherigen Arbeiten in Richtung von Strukturen mit erheblich geringeren Abmessungen gekoppelt mit einer bislang nicht möglichen in-situ Kontrolle durch Elektronenmikroskopie, optischen und elektrischen Verfahren, systematisch weiter voranzutreiben. Das beantragte System soll zu hochauflösenden Strukturierungsarbeiten in fünf Arbeitsgruppen des Physikalischen Instituts eingesetzt werden. Hierbei werden mit dem Gerät eine Reihe von Prozessen wie beispielweise ein kontrollierter Materialabtrag mit dem Ionenstrahl unter in-situ Beobachtung durch den Elektronenstrahl, eine lokal gezielte ionenassistierte Deposition oder Einzelionenimplantationsprozesse in Würzburg erstmals zur Verfügung stehen. Die geplanten Arbeiten umfassen unter anderem die Herstellung feinabgestimmter Halbleiterresonatoren, die Prozessierung magnetischer Halbleiter, die Herstellung von Punktkontakten, Untersuchungen zur Keimbildung in der Quantenpunktepitaxie durch lokale Einzelionenimplantation, eine Vorstrukturierung von Oberflächen als Templat für organische Adsorbate, die Herstellung von Nanoantennen usw. Neben dem Einsatz des Geräts zur Nanostrukturierung sind auch Arbeiten zur Schädigung des Proben durch die Implantation und zum Einfluss von Ausheilprozessen geplant.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Julius-Maximilians-Universität Würzburg
• Leiter: Professor Dr. Alfred Forchel