Magnetron Co-Sputtering System

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2021
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 468939474

Das Magnetron-Sputtering ist eine verbreitete Methode zur Synthese dünner Schichtsysteme für Forschung, Entwicklung und Anwendung der Spintronik. Ein Co-Sputtering System erlaubt es, Schichtsysteme und Legierungen aus verschiedenen Elementen zu synthetisieren, um so Ideen aus der Materialforschung schnell in die anwendungsnahe Entwicklung von spintronischen Systemen zu übertragen. Die Arbeiten der beantragenden Arbeitsgruppen liegen im Bereich intermetallischer Materialien für die Spintronik, antiferromagnetischer Spintronik, Spin-Orbit Torques, und magnetischer wie auch oxidischer nichtflüchtiger Speicherelemente. Im hier beantragten Vorhaben soll eine moderne, teilautomatische Magnetron-Co-Sputtering-Anlage mit neun Quellen angeschafft werden. Weitere Anforderungen sind die Deposition im Ultrahochvakuum, reaktives Sputtern mit Stickstoff und Sauerstoff, Deposition bei Temperaturen bis 700°C und eine flexible Konfiguration der Arbeitsabstände und Depositionswinkel zwischen Quellen und Substrathalter. Das System wird überwiegend vom Fachgebiet Neue Materialien Elektronik am Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik genutzt werden und wird das Herzstück der experimentellen Infrastruktur der Arbeitsgruppe darstellen. Die Integration mit dem Cluster-System aus Pulsed Laser Deposition, Molekularstrahlepitaxie und Ionenstrahl-Ätzen des Fachgebiets Dünne Schichten am Fachbereich Material- und Geowissenschaften wird die experimentellen Möglichkeiten beider Gruppen signifikant erweitern und die Zusammenarbeit der Fachbereiche stärken.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Magnetron Co-Sputtering System
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Technische Universität Darmstadt
• Leiter: Professor Dr. Markus Meinert