Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

• Fachliche Zuordnung: Werkstofftechnik
• Förderung: Förderung in 2020
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 455444208

Das Institut für Halbleitertechnik der TU Braunschweig deckt in der Forschung die gesamte Breite von der Epitaxie von Halbleiter-Nanostrukturen über die Prozessierung von Bauelementen bis hin zur Integration in Systeme der Nanometrologie ab. Die nötige Infrastrutkur an Prozessierungstechnologien steht hierbei im Rahmen des Epitaxy Competence Center ec2 zur Verfügung, das an das Institut angegliedert ist. Für die Deposition dielektrischer Schichten als Isolation z.B. in mikroLED-Strukturen oder Feldeffekt-Trasnsistoren oder als optische Schicht in Bragg-Spiegeln soll eine Plasma-Depositionsanlage angeschafft werden. Schwerpunkt der Aktivitäten sind mikroLED Plattformen für Structured Micro Illumination Light Engines (SMILE) sowie 3-dimensionale LED Architekturen. Die Anlage steht darüber hinaus allen Partnern im Forschungszentraum LENA (Laboratory for Emerging Nanometrology) zur Verfügung und ergänzt die Infrastruktur der Halbleiter-Technologie.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Technische Universität Braunschweig
• Leiter: Professor Dr. Andreas Waag