Project Details
universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten
Subject Area
Electrical Engineering and Information Technology
Term
Funded in 2016
Project identifier
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 316893580
Eine konkurrenzfähige und erfolgreiche Forschung erfordert zwingend eine Ausrüstung, die dem gegenwärtigen Stand der Technik entspricht - insbesondere in einem konkurrenzstarken Forschungsgebiet wie der hier relevanten photovoltaischen und optoelektronischen Materialforschung. Mit der beantragten Sputteranlage soll es zukünftig in den drei an der Ausschreibung beteiligten Arbeitsgruppen des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) ermöglicht werden, sowohl leitende (z. B. Kontakte) als auch nichtleitende Schichten (z. B. Dielektrika für Antireflexschichten) in verschiedensten Ausführungen und für diverse Anwendungen (siehe Anhänge) in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig ohne hinderliche externe Abhängigkeiten herzustellen, um einen raschen Fortschritt der entsprechenden Forschungsprojekte zu gewährleisten.
DFG Programme
Major Research Instrumentation
Major Instrumentation
universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten
Instrumentation Group
8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
Applicant Institution
Karlsruher Institut für Technologie