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universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten

Subject Area Electrical Engineering and Information Technology
Term Funded in 2016
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 316893580
 
Eine konkurrenzfähige und erfolgreiche Forschung erfordert zwingend eine Ausrüstung, die dem gegenwärtigen Stand der Technik entspricht - insbesondere in einem konkurrenzstarken Forschungsgebiet wie der hier relevanten photovoltaischen und optoelektronischen Materialforschung. Mit der beantragten Sputteranlage soll es zukünftig in den drei an der Ausschreibung beteiligten Arbeitsgruppen des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) ermöglicht werden, sowohl leitende (z. B. Kontakte) als auch nichtleitende Schichten (z. B. Dielektrika für Antireflexschichten) in verschiedensten Ausführungen und für diverse Anwendungen (siehe Anhänge) in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig ohne hinderliche externe Abhängigkeiten herzustellen, um einen raschen Fortschritt der entsprechenden Forschungsprojekte zu gewährleisten.
DFG Programme Major Research Instrumentation
Major Instrumentation universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten
Instrumentation Group 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
Applicant Institution Karlsruher Institut für Technologie
 
 

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