universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten

• Fachliche Zuordnung: Elektrotechnik und Informationstechnik
• Förderung: Förderung in 2016
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 316893580

Eine konkurrenzfähige und erfolgreiche Forschung erfordert zwingend eine Ausrüstung, die dem gegenwärtigen Stand der Technik entspricht - insbesondere in einem konkurrenzstarken Forschungsgebiet wie der hier relevanten photovoltaischen und optoelektronischen Materialforschung. Mit der beantragten Sputteranlage soll es zukünftig in den drei an der Ausschreibung beteiligten Arbeitsgruppen des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) ermöglicht werden, sowohl leitende (z. B. Kontakte) als auch nichtleitende Schichten (z. B. Dielektrika für Antireflexschichten) in verschiedensten Ausführungen und für diverse Anwendungen (siehe Anhänge) in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig ohne hinderliche externe Abhängigkeiten herzustellen, um einen raschen Fortschritt der entsprechenden Forschungsprojekte zu gewährleisten.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Karlsruher Institut für Technologie
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Michael Powalla