High resolution electron beam lithography system

• Fachliche Zuordnung: Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
• Förderung: Förderung in 2016
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 310719673

Für geplante Forschungsarbeiten im Bereich der Nano- und Quantenphotonik, der Materialphysik und Magnonik, sowie der Oberflächenphysik und Plasmonik ist ein leistungsfähiges Elektronstrahl-lithographiesystem mit höchster Auflösung, großem Schreibfeld und hoher Taktrate erforderlich um sicherzustellen, dass großflächige Belichtungen mit lokalen Nanostrukturen mit Abmessungen im Bereich weniger Nanometer reproduzierbar hergestellt werden können. An der WWU ist momentan kein ebeam-Schreiber verfügbar der für die Herstellung derartiger Strukturen verwendet werden könnte. Im Rahmen der Neuberufung von Prof. W. Pernice soll deshalb ein hochauflösender Elektronenstrahlschreiber angeschafft werden mit dem zugleich die Arbeitsfähigkeit der Gruppe hergestellt wird. Mit Hilfe des neuen Geräts sollen komplexe optische Schaltkreise erstellt werden für Anwendungen in der Quantenoptik, der Optomechanik sowie der chipbasierten Metrologie. Insbesondere hybride integrierte Systeme sollen untersucht werden, die nanoskalige Emitter und optische Elemente zur Signalverarbeitung verbinden. Unter Verwendung neuer Materialien soll in weitgehend ungenützte Wellenlängenbereiche im mittleren und langwelligen Infrarotbereich vorgedrungen werden. Das Gerät soll drüber hinaus als Nukleationspunkt für weitere Projekte im Bereich der Nanotechnologie dienen um eine leistungsfähige Lithographie Umgebung an der WWU aufzubauen und den Schwerpunkt Nanophysik weiter zu stärken.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: High resolution electron beam lithography system
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Universität Münster
• Leiter: Professor Dr. Wolfram Hans Peter Pernice