Hochleistungs-Sputtering Anlage mit Zubehör

• Fachliche Zuordnung: Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
• Förderung: Förderung in 2011
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 204116194

„Das Hauptgerät (HPPMS Reaktor) wird im bewilligten Teilprojekt A5 (HPPMS Plasmen: Orts- und zeitaufgelöste Charakterisierung) des Transregio-SFB 87 „Gepulste Hochleistungsplasmen zur Syn-these nanostrukturierter Funktionsschichten" eingesetzt. Es stellt die zentrale Forschungsapparatur dar und ist für die Forschungsarbeiten unverzichtbar. Die Anlage ist implizit im Rahmen des TR87 mit begutachtet worden. Vergleichbare Geräte existieren an der Ruhr-Universität nicht. Ein Teilgerät (Präparationsteil) dient zusätzlich zu den präparativen Arbeiten für das o.g. Projekt auch der Herstellung von Mikroplasma-Arrays für das Teilprojekt A1 (Spectroscopic investigations of excitation and reaction dynamics of microdischarges excited at kHz and MHz frequencies) der Forschergruppe FOR 1123 „Physics of Microplasmas". Seine Verfügbarkeit ist für den Fortsetzungsantrag der FOR1123 von Bedeutung. Das Zubehörteil (intensivierte CCD-Kamera) dient der Ertüchtigung eines vorhandenen hochauflösen-den Spektrometers für die Untersuchung von HPPMS Plasmen.“

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Ruhr-Universität Bochum
• Leiter: Professor Dr. Jörg Winter