Plasmaätzanlage

• Fachliche Zuordnung: Elektrotechnik und Informationstechnik
• Förderung: Förderung in 2011
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 204058942

„Die Forschung des Lehrstuhls im Bereich der Optoelektronik und Photonik erfordert Halbleiterproben, die in ganz bestimmter Weise gewachsen und prozessiert werden müssen. Derzeit ist der Lehrstuhl komplett auf Probenzulieferungen durch Kooperationspartner angewiesen. Insbesondere die Proben-prozessierung war dadurch in der Vergangenheit durch die notwendige Einbeziehung externer Koope-rationspartner mit erheblichem zeitlichem Aufwand und häufig mit technischen Komplikationen ver-bunden und hat dadurch den Projektfortschritt erheblich verzögert.Mit diesem Antrag soll die Möglichkeit geschaffen werden, III-V- Halbleiterproben, d.h. insbesondere neue optoelektronische Bauelementkonzepte, nach speziellen eigenen Bedürfnissen zu prozessieren, indem die beantragte Plasmaätzanlage in einen gemeinsam mit dem Lehrstuhl für Werkstoffe und Nanoelektronik genutzten, im Rahmen der Renovierung der Ruhr-Universität gerade neu eingerichteten, Reinraumbereich eingebracht wird.“

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Ruhr-Universität Bochum
• Leiter: Professor Dr. Martin Hofmann