Elektronenstrahllithographiesystem mit Interferometertisch

• Subject Area: Optics, Quantum Optics and Physics of Atoms, Molecules and Plasmas
• Term: from 2007 to 2010
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 61539341

Der Zentralbereich des Sonderforschungsbereiches SFB 755 Nanoscale Photonic Imaging braucht ein leistungsfähiges Elektronenstrahllithographiesystem, mit dem großflächige Nanostrukturen für verschiedenen Röntgenoptiken (Zonenplatten, Wellenleiter, Refraktive Linsen), Mikrofluidiksysteme sowie Teststrukturen für die STED-Mikroskopie hergestellt werden können. Dazu ist insbesondere eine interferometrischer Verschiebetisch erforderlich (fixed beam moving stage), um Versatzfehler (stitching errors) zu vermeiden. Die wissenschaftliche Begründung ist durch Begutachtung des SFB 755 im Detail untersucht und befürwortet worden. Der interferometrischer Verschiebetisch soll demnach als Zusatzgerät von der DFG finanziert, die Grundeinheit von der Universität über HBFG-Mittel getragen werden.

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Instrumentation Group: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Applicant Institution: Georg-August-Universität Göttingen
• Leader: Professor Dr. Tim Salditt