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Metal-organic deposition of chalcogenide thin films

Subject Area Inorganic Molecular Chemistry - Synthesis and Characterisation
Term from 2000 to 2003
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5282251
 
Metallchalkogenid-Schichten haben aufgrund ihrer halbleitenden Eigenschaften eine erhebliche Bedeutung erlangt, doch sind bisher keine naßchemischen Methoden zu ihrer Aufbringung verfügbar, die eine ähnliche Flexibilität in der Wahl des Beschichtungsverfahrens wie bei den oxidischen Materialien bieten. Das Forschungsvorhaben soll grundlegende Erkenntnisse zur metallorganischen Abscheidung der Chalkogenide erbringen. Ausgehend von einer Lösung des Precursors werden hierzu Flüssigfilme auf unterschiedlichen Substraten durch Naßbeschichtungsverfahren aufgebracht und anschließend thermisch unter Bildung des gewünschten Chalkogenids zersetzt. Als Precursoren werden Chalkogenometallate und Polychalkogeno-Komplexe eingesetzt, deren Lösungs- und Thermolyseverhalten durch das Gegenion maßgeblich beeinflußt werden kann. Entscheidend ist auch die Abstimmung des Precursor/Lösemittel-Systems, da es zum einen das Beschichtungsverhalten, zum anderen aber auch die Zusammensetzung und Morphologie der resultierenden Schichten mitbestimmt. Ein tieferes Verständnis der Vorgänge während der Thermolyse der Precursoren soll in die Synthese neuer Verbindungen und die Optimierung der Beschichtungsparameter einfließen.
DFG Programme Research Grants
 
 

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