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Microwave plasmas at atmospheric pressure for surface technologies

Subject Area Electronic Semiconductors, Components and Circuits, Integrated Systems, Sensor Technology, Theoretical Electrical Engineering
Term from 2000 to 2003
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5257624
 
Quellen für 2,45 GHz Mikrowellenplasmen bei atmosphärischem Druck mit vorzugsweise Argon als Trägergas und verschiedenen reaktiven Gasen sollen für Anwendungen in der Oberflächenmodifikation und für Oberflächenbeschichtungen in den Grundlagen untersucht, charakterisiert und in Anwendungen getestet werden. Die Plasmaquellen sollen dabei ausgehend von koaxialen Plasmafackeln und Quellen in Streifenleitungstechnik entwickelt werden. Für die Modellierung stabiler Plasmaquellen bei atmosphärischem Druck mit sicherer Zündung sollen strömungsmechanische Berechnungen verknüpft mit elektromagnetischen Feldberechnungen eingesetzt werden. Die Eigenschaften der erzeugten Plasmen sollen charakterisiert werden, insbesondere durch ortsaufgelöste Messungen der Gastemperaturen sowie durch Näherungsbestimmungen der Elektronendichte. Damit sollen Quellenanordnungen, Gasflüsse und Leistungseinkopplung optimiert werden. Die Eignung zur Modifikation und Beschichtung von Oberflächen soll exemplarisch untersucht werden auch im Hinblick auf z.B. Abscheideverhalten und Wärmebelastung.
DFG Programme Research Grants
 
 

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