Plasma-FIB-Mikroskop

• Fachliche Zuordnung: Werkstofftechnik
• Förderung: Förderung in 2021
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 464555300

Bei dem beantragten Großgerät handelt es sich um ein Rasterelektronenmikroskop, das neben der Elektronensäule mit einer Ionensäule zur Nanobearbeitung von Materialien ausgestattet ist. Bei der Ionenquelle handelt es sich um ein innovatives Xenon-Plasma- FIB-System (focussed ion beam), mit dem ein sehr schneller und kontaminationsfreier Materialabtrag möglich ist. In Kombination mit diversen Detektoren zur ultrahochaufgelösten Sekundärelektronen-, Rückstreuelektronen- und Ionenabbildung (Auflösung 1 nm) verfügt das Gerät über ein EDX- und ein EBSD-System zur ortsaufgelösten Analyse der chemischen Zusammensetzung und der kristallographischen Orientierung. Durch die Möglichkeit des schichtweisen Abtragens mit dem Xe-Ionenstrahl können die Abbildungs- und Analysetechniken auch dreidimensional zur Tomographie von Bereichen in der Größenordnung mehrerer hundert μm genutzt werden. Darüber hinaus wird das System zur effizienten Präparation von dünnen Folien für die Transmissionselektronenmikroskopie und Spitzen im Nanometermaßstab für die 3D-Atomsonde eingesetzt. Da diese atomar auflösenden Systeme insbesondere im Profilbereich Materials Science and Engineering (MatSE) der RWTH Aachen zunehmend eingesetzt werden, kommt dem beantragten Plasma- FIB-Mikroskop hier eine besondere Bedeutung zu.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Plasma-FIB-Mikroskop
• Gerätegruppe: 5120 Rasterelektronenmikroskope (REM)
• Antragstellende Institution: Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Ulrich Krupp