Plasma-unterstützte Gasphasendepositionsanlage (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)

• Subject Area: Electrical Engineering and Information Technology
• Term: Funded in 2015
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 273513748

Nanoelektronische Bauelemente auf Basis neuartiger zweidimensionaler (2D) Materialien wie zum Beispiel Graphen oder Übergangsmetall-basierte Dichalcogenide (engl. Transition Metal Dichalcogenides, TMDs) werden derzeit intensiv untersucht. Diese Bauelemente können aber nur dann ernsthaft als Alternative zu bestehenden Technologien herangezogen werden, wenn es gelingt die Materialherstellung skalierbar und kompatibel mit existierender Technologie zu beherrschen. Während noch viele Forschergruppen weltweit mit exfolierten (d.h. auf Mikrometerdimensionen limitierten) 2D Materialien arbeiten, hat sich der Ingenieurwissenschaftlich ausgerichtete Lehrstuhl für Graphen-basierte Nanotechnologie auf großflächige Schichten aus chemischen Gasphasendepositionsprozessen(CVD) fokussiert. Gerade diese Integration mit existierender Technologie ist ein wesentliches Alleinstellungsmerkmal der Arbeitsgruppe. Die hier beantragte Plasma CVD-Anlage soll für Experimente zur Herstellung von qualitativ hochwertigem Graphen und TMDs und deren Bauelemente verwendet werden. Das Plasma CVD Verfahren bietet durch geschickte Wahl geeigneter Gasprekursoren in Kombination mit Plasmaanregung zur Erzeugung benötigter Radikale unvergleichliche Möglichkeiten der Materialkomposition und der Präzision bei gleichzeitiger Absenkung der thermischen Budgets. Das geplante System soll eine PC-Steuerung und eine Vakuumschleuse ("Load Lock") zur kontaminationsfreien Prozessführung enthalten. Eine vergleichbare Anlage ist in Siegen nicht vorhanden.

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Major Instrumentation: Plasma-unterstützte Gasphasendepositionsanlage (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)
• Instrumentation Group: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Applicant Institution: Universität Siegen
• Leader: Professor Dr.-Ing. Max Christian Lemme