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Dr. Hans-Joachim Müssig

Adresse IHP GmbH
Innovations for High Performance Microelectronics/
Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
Im Technologiepark 25
15236 Frankfurt (Oder)

Projekte

Als Antragsteller
- abgeschlossene Projekte
  - Pr-Silikat als Interfaceschicht und Gate-Dielektrikum, erzeugt durch Festphasenreaktion zwischen metallischem Pr und SiO2 (Sachbeihilfen)

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